問題点 生産ラインのスピードアップが求められており、従来のヒーターではサイズや形 ...
Read More »No.24 リフローハンダ槽のプリント基板の予熱
問題点 従来の熱源では、昇温速度が遅く、予熱プロセスに時間がかかり、スループット ...
Read More »No.23 ロボット洗浄機の乾燥
問題点 従来の熱源では、昇温速度が遅く、乾燥プロセスに時間がかかり、スループット ...
Read More »No.22 ポストベークの熱源
問題点 従来の熱源では昇温速度が遅く、スループットの改善が期待できない可能性があ ...
Read More »No.21 露光後ベーク(PEB)の熱源
問題点 従来の熱源では昇温速度が遅く、スループットの改善が期待できない可能性があ ...
Read More »No.20 レジスト膜のプリベークの熱源
問題点 半導体製造プロセスにおいて、レジスト膜のプリベークは膜品質を安定させるた ...
Read More »No.19 チャックホルダーの予熱
問題点 スピンコーターのチャックホルダーを適切な温度に予熱することで、塗布液の均 ...
Read More »No.18 脱水ベークの高速化
問題点 脱水ベーク工程において、乾燥時間の短縮が重要な課題となっていました。従来 ...
Read More »No.17 仮固定用接着剤の乾燥
問題点 仮固定用接着剤の乾燥工程において、乾燥時間の短縮が重要な課題となっていま ...
Read More »No.16 SICウェハーのアニール処理
問題点 SICウェハーのアニール処理では、高温で均一な加熱が求められる一方で、ス ...
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