No.20 レジスト膜のプリベークの熱源

問題点

半導体製造プロセスにおいて、レジスト膜のプリベークは膜品質を安定させるために重要な工程です。しかし、従来の熱源では昇温速度が遅いため、スループットの低下が生産効率に影響を与えていました。さらに、熱源の設置スペースの確保も課題となっていました。

　⇒改善のポイント
カーボンラインヒーターを使用して レジスト膜のプリベークを行うことで、迅速かつ均一な加熱が可能となった。また、高速昇温によりスループットの向上を実現し、生産効率の最適化に貢献した。さらに、カーボンラインヒーターのコンパクトな設計により、省スペース化を実現し、設備の柔軟なレイアウトが可能になった。

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