再反射加熱法－溝加熱

基本原理

加熱対象物が小さく、ハロゲンヒーターの集光径（幅）と同じか小さい場合の図です。
簡単な方法で溝を作り、加熱対象物を溝の内側に配置します。

溝加熱の加熱対象物は3つ要素で加熱されます。

1.熱源からの直接加熱
2.壁面の反射光による加熱
3.壁面の輻射熱による加熱

上昇気流による悪影響の防止

開放加熱は、加熱対象物の周囲に有る空気も加熱して、空気が熱膨張し軽くなるので、上昇気流が発生します。
上昇気流により希薄化して低圧になった空間に、常温常圧の空気が流れ込みます。
この流れ込む空気は、加熱対象物に接触して常温まで冷却しますので加熱作業には良くありません。
枠加熱に冷却空気の気流は発生しないので、効果的な加熱環境を作ります。

再反射加熱法の検証-平面加熱と溝加熱の差

溝内に不活性ガスを流すと、無酸化もしくは低酸化加工ができます。
溝の上を石英ガラスで覆うとより完璧になります。

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開放照射と溝加熱の比較

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Φ60の集光鏡を装着し焦点距離30mmのHPH-60/f30/36v-450wを例にとると、
定格焦点径がφ8なので、溝加熱に向いています。

800℃に到達する時間は、溝加熱では20秒以内で到達しましが、開放加熱では40秒でも到達しません。
再帰反射加熱光を利用すると高温領域での伸びが違います。